溶膠凝膠制備納米多孔SiO2光學增透薄膜耐磨特性強化研究

在溶膠-凝膠基礎上,采用堿/酸兩步法和浸漬鍍膜技術制備出納米多孔SiO2薄膜,并將該薄膜在空氣和氨氣與水蒸氣的混合氣體中熱處理.使用透射電子顯微鏡、原子力顯微鏡、傅立葉紅外光譜儀、橢偏儀、分光光度計等分析了薄膜的特性.實驗結果表明:采用堿/酸兩步催化法能夠明顯提高納米多孔SiO2光學增透薄膜的力學特性,混合氣體中的熱處理又使其力學性能得到進一步改善.薄膜耐磨等力學性能增強歸因于SiO2顆粒間更多的化學鍵合.在力學性能增強的同時,薄膜折射率仍保持約1.24的較低值,光學增透效果良好,透射率≥99.5%.

作 者： 吳廣明 沈軍 王玨 周斌 倪星元   作者單位： 同濟大學,波耳固體物理研究所,上海,200092  刊 名： 原子能科學技術  ISTIC EI PKU 英文刊名： ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 36(4)  分類號： O484  關鍵詞： 溶膠-凝膠技術   增透薄膜   納米多孔結構   SiO2薄膜  

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