掠出射X射線熒光光譜儀研制

掠出射X射線熒光分析技術是分析薄膜特性和介質表面的一種重要工具.文中簡述了利用掠出射X射線熒光技術分析薄膜厚度的原理和方法,介紹了一種在實驗室里由激發(fā)光源、樣品承載系統(tǒng)、色散系統(tǒng)、探測系統(tǒng)和數(shù)據(jù)收集及處理系統(tǒng)構成的掠出射X射線熒光光譜儀系統(tǒng),并給出了利用55Fe放射性同位素標定該光譜儀系統(tǒng)的試驗結果.

作 者： 鞏巖 尼啟良 陳波 曹健林   作者單位： 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 應用光學國家重點實驗室,吉林長春 130022  刊 名： 光學精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2002 10(6)  分類號： O431.1  關鍵詞： 掠出射X射線熒光   光譜分析   薄膜  

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