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La摻雜濃度對PLZT薄膜紅外光學性質(zhì)的影響

時間:2023-04-28 19:20:48 數(shù)理化學論文 我要投稿
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La摻雜濃度對PLZT薄膜紅外光學性質(zhì)的影響

采用溶膠-凝膠法在Pt/Ti/SiO2/Si襯底上制備了不同La摻雜濃度PLZT(x/40/60)薄膜. x射線衍射分析表明制備的PLZT(x/40/60)薄膜是具有單一鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的多晶薄膜. 通過紅外橢圓偏振光譜儀測量了波長為2.5-12.6μm范圍內(nèi)PLZT薄膜的橢偏光譜,采用經(jīng)典色散模型擬合獲得PLZT薄膜的紅外光學常數(shù),同時也擬合獲得PLZT薄膜的厚度. 隨著La摻雜濃度的增大,折射率逐漸減小. 而消光系數(shù)除PLZT(4/40/60)薄膜外,呈現(xiàn)逐漸增大的趨勢. 分析表明這些差異主要與PLZT薄膜的結(jié)晶性,如晶粒尺寸,以及顆粒邊界、形貌、電子能帶結(jié)構(gòu)有關(guān). 通過計算得到PLZT薄膜的吸收系數(shù)大于PZT薄膜的吸收系數(shù). 隨著La摻雜濃度的增大,靜態(tài)電荷值逐漸減小. 這說明在PLZT中,電荷的轉(zhuǎn)移是不完全的,它屬于離子-共價混合的化合物.

作 者: 胡志高 石富文 黃志明 王根水 孟祥建 林鐵 褚君浩   作者單位: 中國科學院上海技術(shù)物理研究所紅外物理國家重點實驗室,上海,200083  刊 名: 物理學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名: ACTA PHYSICA SINICA  年,卷(期): 2003 52(7)  分類號: O4  關(guān)鍵詞: PLZT薄膜   紅外光學性質(zhì)   紅外橢圓偏振光譜  

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