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痕量镎和钚的ICP-MS分析方法

時間:2023-04-27 21:00:32 數理化學論文 我要投稿
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痕量镎和钚的ICP-MS分析方法

經TOA萃取色層柱分離環境樣品,2次上柱,將Np和Pu同時洗脫,239Pu的化學回收率為 (92.7±3.1)%,237Np為(96.8±2.7)%,實現了ICP-MS同時測定痕量Np和Pu的含量.應用稀釋劑242Pu,通過同位素稀釋ICP-MS法測量痕量239Pu和240Pu的含量,用IAEA標樣對方法進行驗證,Pu 的測定值與標樣的推薦值吻合較好(標樣中無Np的標準值),證明了ICP-MS同時測定痕量Np和Pu的可行性.

作 者: 吉艷琴 李金英 JI Yan-qin LI Jin-ying   作者單位: 吉艷琴,JI Yan-qin(中國疾病預防控制中心,輻射防護與核安全醫學所,北京,100088)

李金英,LI Jin-ying(中國核工業集團公司,北京,100822) 

刊 名: 核化學與放射化學  ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF NUCLEAR AND RADIOCHEMISTRY  年,卷(期): 2008 30(2)  分類號: O657.63  關鍵詞: 電感耦合等離子體質譜(ICP-MS)   環境樣品   痕量   镎   钚   同位素稀釋法  

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