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全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究

時間:2023-04-27 22:00:44 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究

為了控制全息光柵光刻膠掩模槽形,運(yùn)用曝光模型和顯影模型模擬了掩模的槽形形成過程和變化規(guī)律.實(shí)驗(yàn)對比了不同曝光量,不同顯影濃度,不同空頻條件下的掩模槽形,特別是占寬比(光柵齒寬度與光柵周期的比)的情況.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,實(shí)際槽形與模擬槽形很接近.模擬和實(shí)驗(yàn)均發(fā)現(xiàn),在大曝光量、高濃度顯影、高空頻的光柵條件下所得槽形占寬比較小,槽深主要由原始膠厚決定.

全息光柵光刻膠掩模槽形演化及其規(guī)律研究

作 者: 陳剛 吳建宏 劉全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan   作者單位: 陳剛,CHEN Gang(南京信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院,微電子工程系,南京,210046)

吳建宏,劉全,WU Jiang-hong,LIU Quan(蘇州大學(xué),信息光學(xué)工程研究所,江蘇,蘇州,215006) 

刊 名: 光學(xué)技術(shù)  ISTIC PKU 英文刊名: OPTICAL TECHNIQUE  年,卷(期): 2008 34(1)  分類號: O436.1  關(guān)鍵詞: 衍射光柵   全息光柵掩模   槽形模擬   占寬比控制  

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