參數(shù)對(duì)微焦點(diǎn)源相位相襯像質(zhì)影響的研究

微焦點(diǎn)同軸X射線相位相襯成像能得到清晰度和分辨率高的圖像.本文從理論上用計(jì)算機(jī)模擬的方法分析各參數(shù)對(duì)成像質(zhì)量的影響,以指導(dǎo)實(shí)驗(yàn)時(shí)避免不必要的時(shí)間和材料浪費(fèi),獲得理想的圖像.

作 者： 王燕 陳家璧 張學(xué)龍 Wang Yan Chen Jiabi Zhang Xuelong   作者單位： 王燕,Wang Yan(上海理工大學(xué)光電學(xué)院,上海,200093;江西師范大學(xué)理電學(xué)院,江西南昌,330022)

陳家璧,Chen Jiabi(上海理工大學(xué)光電學(xué)院,上海,200093)

張學(xué)龍,Zhang Xuelong(上海理工大學(xué)醫(yī)療器械學(xué)院,上海,200093) 

刊 名： 應(yīng)用激光  ISTIC PKU 英文刊名： APPLIED LASER  年，卷(期)： 2008 28(3)  分類號(hào)： O434 O43 O435.1  關(guān)鍵詞： X射線   相位相襯   微焦點(diǎn)源  

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