CVD摻硫金剛石薄膜的應力研究

以[CH/H2/Ar/H2S]為工作氣體,采用輝光等離子體輔助化學氣相沉積(CVD)技術,對摻硫金剛石薄膜的應力進行了研究,結果表明:在典型的摻硫金剛石薄膜制備工藝條件下,隨著硫碳比的增加,總應力和本征應力星減小趨勢,在硫碳體積比RS/C=4.2×10-3時,總應力有最大值23GPa;在R S/C=6.5×10-3時,本征應力可以抵消熱應力,而使總應力的絕對值最小,在此條件下所合成的金剛石薄膜與襯底的附著性較好,有利于金剛石薄膜的穩定生長.分析認為金剛石薄膜的晶粒邊界密度,sp2碳相等雜質分別是產生張力、壓力的主要原因.

作 者： 趙慶勛 王永杰 南景宇 楊景發 閆正   作者單位： 趙慶勛,王永杰,楊景發,閆正(河北大學物理科學與技術學院,河北,保定,071002)

南景宇(張家口師范專科學校物理系,河北,張家口,075000) 

刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號： O484  關鍵詞： 薄膜物理學   化學氣相沉積   金剛石薄膜   摻雜   應力  

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