磁場方式電阻抗成像的研究現(xiàn)狀與發(fā)展

目的:為了提高電阻抗成像技術(shù)的分辨率,磁場的電導(dǎo)率成像方式被引入到電阻抗成像中.方法:本文針對磁場方式的磁感應(yīng)成像(MIT),磁探測電阻抗成像(MD-EIT)和磁共振電阻抗成像(MREIT)的原理和研究現(xiàn)狀做了分析,提出磁場方式的電阻抗成像更具應(yīng)用前景.結(jié)果:基于不同的成像算法,以上磁場方式的電阻抗成像均能實現(xiàn)電阻率分布的重構(gòu).結(jié)論:磁場方式的電阻抗成像是電阻抗成像研究的新途徑,具有廣泛的發(fā)展前景.

作 者： 李剛 陳瑞娟 郝麗玲 林凌   作者單位： 天津大學(xué)精密測試技術(shù)與儀器國家重點實驗室,天津,300072  刊 名： 中國醫(yī)學(xué)物理學(xué)雜志  ISTIC 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF MEDICAL PHYSICS  年，卷(期)： 2010 27(2)  分類號： Q-334  關(guān)鍵詞： 電導(dǎo)率   MIT   MD-EIT   MREIT   conductivity   MIT   MD-EIT   MREIT  

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