氣相沉積制備硬質(zhì)薄膜技術(shù)與應(yīng)用述評(píng)

本文對(duì)氣相沉積技術(shù)的發(fā)展與最新趨勢(shì)給出了述評(píng),重點(diǎn)強(qiáng)調(diào)了等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PCVD)的優(yōu)勢(shì)、進(jìn)展及其在工模具領(lǐng)域的應(yīng)用.

作 者： 馬勝利 徐可為 介萬奇   作者單位： 馬勝利(西北工業(yè)大學(xué)金屬凝固技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710072;西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710049)

徐可為(西安交通大學(xué)金屬材料強(qiáng)度國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710049)

介萬奇(西北工業(yè)大學(xué)金屬凝固技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,西安,710072) 

刊 名： 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(6)  分類號(hào)： O484  關(guān)鍵詞： 氣相沉積技術(shù)   硬質(zhì)薄膜   PCVD  

【氣相沉積制備硬質(zhì)薄膜技術(shù)與應(yīng)用述評(píng)】相關(guān)文章：

脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng)用04-26

堇青石基體化學(xué)氣相沉積碳化硅薄膜及其性能表征04-26

測(cè)井沉積微相自動(dòng)識(shí)別與應(yīng)用04-27

氣相CdCl2退火對(duì)CdTe多晶薄膜性能的影響04-26

納米ZnO薄膜制備及液態(tài)源摻雜04-27

感光薄膜與二維Bragg光柵制備04-27

現(xiàn)代氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)在分析不同果品香氣成分中的應(yīng)用04-27

便攜式氣相色譜-質(zhì)譜儀在應(yīng)急監(jiān)測(cè)中的應(yīng)用04-26

脈沖激光沉積Al/Ag摻雜功能梯度薄膜04-27

青島即墨溫泉沉積物的地球化學(xué)標(biāo)識(shí)與沉積相研究04-26