電子與太陽電磁射線綜合輻照對Teflon FEP/Al光學性能的影響

在30keV的電子、質子單獨輻照及電子與太陽電磁射線綜合輻照作用下,對Teflon FEP/Al第二表面鏡光學性能的演化進行了研究.試驗結果表明,在相同輻照通量與能量乘積的情況下,電子與質子單獨輻照后Teflon FEP/Al涂層材料的太陽吸收比變化相同,故可用電子與太陽電磁射線綜合輻照簡化地面模擬加速試驗.Teflon FEP/Al光學性能退化動力學曲線可描述成加速系數與輻照時間乘積(稱為當量輻照時間)的指數函數形式.在當量輻照時間相同的情況下,太陽吸收比的變化與加速系數無關.

作 者： 李春東 楊德莊 何世禹 M.M.Mikhailov   作者單位： 李春東,楊德莊,何世禹(哈爾濱工業大學,空間材料與環境工程實驗室,黑龍江,哈爾濱,150001)

M.M.Mikhailov(托姆斯克控制與電子技術國立大學,空間材料實驗室,俄羅斯,托姆斯克,634034) 

刊 名： 強激光與粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2002 14(6)  分類號： O483 O433.4  關鍵詞： 熱控涂層   輻照   光學性能   地面模擬   加速試驗  

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