鉀修飾的MoO3/SiO2催化劑的XRD和TPR表征

采用XRD和TPR測試技術表征了一系列不同K與Mo摩爾比的MoO3/K2O/SiO2催化劑.XRD表征結果顯示,隨著元素K的加入,多鉬物種逐漸被破壞,最終形成了單鉬的K2MoO4物種.TPR表征顯示,催化劑表面的鉬物種有2種結構,即八面體的Mo(Oh)和四面體的Mo(Td).八面體Mo(Oh)的還原峰在770 K附近,而四面體Mo(Td)還原峰在1 000 K附近;無K的MoO3/SiO2催化劑的低溫還原峰出現在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo與SiO2之間的作用,使得低溫還原峰溫度降低到770 K附近;隨著元素K添加量的進一步增加,Mo(Oh)物種逐漸減少而Mo(Td)物種逐漸增多,從而使得催化劑表面的Mo更難被還原.高硫合成氣制甲硫醇的活性隨著鉬基催化劑八面體(Oh)鉬物種的增加而增加.

作 者： 王琪 郝影娟 陳愛平 姚光華 楊意泉 WANG Qi HAO Ying-Juan CHEN Ai-Ping YAO Guang-Hua YANG Yi-Quan   作者單位： 廈門大學化學化工學院,廈門,361005  刊 名： 應用化學  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY  年，卷(期)： 2007 24(5)  分類號： O643  關鍵詞： MoO3/K2O/SiO2催化劑   XRD   TPR   高硫合成氣   甲硫醇  

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