光聚物材料中布喇格偏移的動態分析

對光致聚合全息存儲材料光化學反應過程和引起布喇格偏移的因素進行了分析,通過理論推導,得到了曝光時間與布喇格偏移量的關系.實驗曲線表明,材料的布喇格偏移先是隨著曝光量的增加而增加,最后達到飽和值.實驗的結果與理論分析進行比較,兩者符合較好,說明對于布喇格偏移隨時間變化動態過程的分析比較合理.

作 者： 翟鳳瀟 李若平 殷瓊 孫彩霞 路海 黃明舉 Zhai Fengxiao Li Ruoping Yin Qiong Sun Caixia Lu Hai Huang Mingju   作者單位： 翟鳳瀟,李若平,殷瓊,孫彩霞,路海,Zhai Fengxiao,Li Ruoping,Yin Qiong,Sun Caixia,Lu Hai(河南大學物理與信息光電子學院光子與光電子技術研究所,河南開封,475001)

黃明舉,Huang Mingju(河南大學物理與信息光電子學院光子與光電子技術研究所,河南開封,475001;中國科學院上海光學精密機械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光子學報  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA  年，卷(期)： 2006 35(12)  分類號： O438.1  關鍵詞： 布喇格偏移   光致聚合物   縮皺   全息存儲  

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