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CMTD晶體(001)面的表面形貌觀測及其結晶形態(tài)研究
用倒置相差顯微鏡觀察了CdHg(SCN)4(H6C2OS)2(CMTD)晶體結晶過程的形態(tài)變化.同時用原子力顯微鏡(AFM)對CMTD的(001)面進行形貌觀察,測得的初級臺階高度為1.411nm,是晶胞參數(shù)c的一半,發(fā)現(xiàn)了螺旋生長丘及缺陷,并對生長丘的中心孔芯作了初步分析,討論了CMTD晶體所特有的"樹杈狀"和"一字形"缺陷及形成機理.
蘇靜(山東大學,晶體材料國家重點實驗室,山東,濟南,250100;中科院安徽光學精密機械研究所,安徽,合肥,230031)
刊 名: 功能材料 ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS 年,卷(期): 2003 34(2) 分類號: O793 O781 關鍵詞: CdHg(SCN)4(H6C2OS)2(CMTD) 生長機理 缺陷【CMTD晶體(001)面的表面形貌觀測及其結晶形態(tài)研究】相關文章:
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