脈沖激光沉積(PLD)薄膜技術的研究現狀與展望

綜述了脈沖激光沉積(PLD)薄膜技術的研究現狀,并按照研究方向將整個研究領域分為三個部分:PLD法沉積薄膜的機理,PLD的工藝研究以及PLD法沉積的主要薄膜材料,分別進行了闡述,對相關的研究工作提出了建議,并對PLD技術的應用前景做了展望.

作 者： 戢明 宋全勝 曾曉雁   作者單位： 華中科技大學激光技術國家重點實驗室,武漢,430074  刊 名： 真空科學與技術學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 23(1)  分類號： O848  關鍵詞： 脈沖激光沉積   激光激發等離子體   液滴   顆粒物  

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