一種軟X射線多層膜界面粗糙度的計算方法

提出一個利用多層膜小角X射線衍射譜衍射峰積分強度計算多層膜界面粗糙度的公式.用磁控濺射技術制備Mo/Si多層膜,用波長為0.154 nm的硬X射線測量樣品在小掠入射角區的衍射曲線,分別用本文公式和反射率曲線擬合方法計算了樣品的界面粗糙度.實驗結果表明:由本文公式獲得的界面粗糙度近似于擬合方法獲得的界面粗糙度,它們略等于多層膜界面實際粗糙度.

作 者： 馮仕猛 趙海鷹 黃梅珍 范正修 邵建達 竇曉鳴   作者單位： 馮仕猛,趙海鷹,黃梅珍,竇曉鳴(上海交通大學物理系,上海)

范正修,邵建達(中國科學院上海光學精密機械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光學學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(8)  分類號： O484  關鍵詞： 薄膜光學   多層膜   X射線衍射強度   粗糙度  

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