8.0 nm反射式偏振膜的設計和制備

討論了軟X射線反射式偏振膜的設計原理和方法,利用設計軟件模擬設計了8.0 nm處的Mo/B4C偏振膜.對影響多層膜性能的參量進行了詳細的誤差分析.利用磁控濺射鍍膜機進行了偏振膜的制備研究,X射線小角衍射測量了多層膜的周期厚度,測量數據的擬合結果與設計值吻合很好.

作 者： 呂超 易葵 邵建達 L(U) Chao YI Kui SHAO Jian-da   作者單位： 中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜中心,上海,201800  刊 名： 光子學報  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA  年，卷(期)： 2007 36(11)  分類號： O434.14  關鍵詞： 多層膜   軟X射線   偏振   準布儒斯特角  

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