高嶺石有機插層機理及其復合物的應用

綜述了近幾十年來國內外高嶺石有機插層納米復合材料領域中有機插層理論的研究進展,主要對插層劑在納米層間的形態及結構、插層過程中水的作用、吸附與插層、脫嵌過程等方面以及納米復合材料的應用進行了詳細的闡述,并在此基礎上提出了該領域研究的重點及熱點.

作 者： 張生輝 楊楊 強穎懷 夏華 ZHANG Sheng-hui YANG Yang QIANG Ying-huai XIA Hua   作者單位： 張生輝,楊楊,強穎懷,ZHANG Sheng-hui,YANG Yang,QIANG Ying-huai(中國礦業大學,材料科學與工程學院,江蘇,徐州,221008)

夏華,XIA Hua(中國地質大學,材料科學與化學工程學院,湖北,武漢,430074) 

刊 名： 巖石礦物學雜志  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PETROLOGICA ET MINERALOGICA  年，卷(期)： 2006 25(6)  分類號： P578.964 P579  關鍵詞： 高嶺石   有機插層   機理   應用  

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