納米光學金剛石薄膜的分析與改進

由于極其優良的熱學和光學性能,納米金剛石薄膜極有可能應用于背投電視的激光光學窗口.文章通過在熱絲輔助化學氣相沉積法中采用偏壓增強成核(BEN-HFCVD),成功地在(100)硅襯底上制得了適于作為光學窗口的高質量的光學級納米金剛石薄膜,采用的偏壓為-30 V.通過表征制備的納米金剛石薄膜,發現它具有光滑的表面,表面均方根粗糙度(RMS)約為10 nm,并且對自支撐納米金剛石薄膜進行透射光譜分析得到其透射率達到了50 %.

作 者： 胡廣 王林軍 祝雪豐 劉建民 黃健 徐金勇 夏義本 HU Guang WANG Lin-jun ZHU Xue-feng LIU Jian-min HUANG Jian XU Jin-yong XIA Yi-ben   作者單位： 上海大學,材料科學與工程學院,上海,200072  刊 名： 液晶與顯示  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS  年，卷(期)： 2007 22(5)  分類號： O484  關鍵詞： 納米金剛石   光學性質   表面粗糙度   偏壓增強成核-熱絲輔助化學氣相沉積法   nano-diamond   optical properties   surface roughness   bias enhanced nucleation hot filament chemical vapor deposition  

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