電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積a-CFx薄膜的化學鍵結構

使用CHF3和C6H6混合氣體做氣源，在一個電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積裝置中制備了氟化非晶碳(a-CFx)薄膜。利用發(fā)射光譜研究了等離子體中形成的各種碳-氟、碳-氫基團隨放電宏觀參量的變化規(guī)律，對薄膜做了傅里葉變換紅外光譜和X射線光電子能譜分析，證實等離子體中的CF2，CF和CH基團是控制薄膜生長、碳/氟成分比和化學鍵結構的主要前驅物。

作 者： 寧兆元 程珊華 葉超 NING Zhao-yuan Cheng Shan-Hua Ye Chao   作者單位： 蘇州大學物理系,  刊 名： 物理學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2001 50(3)  分類號： O4  關鍵詞： 氟化非晶碳薄膜   電子回旋共振等離子體  

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