絨面ZnO:Al(ZAO)透明導電薄膜的制備

利用中頻交流磁控濺射方法,采用氧化鋅鋁(98wt%ZnO+2wt%Al2O3)陶瓷靶材制備了絨面ZAO(ZnO:Al)薄膜,考察了所制備的絨面ZAO薄膜與絨面SnO2:F薄膜在絨度、粗糙度、表面形貌以及電學性質(zhì)的差異,利用原子力顯微鏡對薄膜表面形貌進行了分析并計算出薄膜表面粗糙度,利用紫外可見分光光度計和電阻測試儀測量了薄膜的光學、電學特性.結(jié)果表明:所制備的絨面ZAO薄膜具有與絨面SnO2:F薄膜相比擬的各種性能,在非晶硅太陽電池中具有潛在的應用前景.

作 者： 付恩剛 方玲 莊大明 張弓   作者單位： 清華大學機械工程系,北京,100084  刊 名： 太陽能學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA ENERGIAE SOLARIS SINICA  年，卷(期)： 2003 24(5)  分類號： O484  關鍵詞： 磁控濺射   絨面   ZAO薄膜   SnO2:F薄膜  

【絨面ZnO:Al(ZAO)透明導電薄膜的制備】相關文章：

納米ZnO薄膜制備及液態(tài)源摻雜04-27

射頻反應濺射制備的ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性04-27

高導電聚苯胺薄膜的制備及其電磁屏蔽性能的研究04-26

Al摻雜ZnO薄膜原子力顯微圖像的多重分形研究04-26

N 摻雜ZnO薄膜的接觸特性04-26

Ag摻雜對ZnO薄膜的光電性能影響04-26

RF濺射ZnO薄膜工藝與結(jié)構(gòu)研究04-26

脈沖工藝在薄膜制備中的應用04-26

感光薄膜與二維Bragg光柵制備04-27

脈沖激光沉積Al/Ag摻雜功能梯度薄膜04-27