襯底溫度對沉積的NiTi薄膜晶化行為的影響

將采用直流磁控濺射方法制備的NiTi薄膜沉積在熱的襯底上,應用X射線散射和小角X射線散射技術研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.結果表明:襯底加熱可降低薄膜的晶化溫度,襯底溫度在350℃以上,濺射的NiTi薄膜已部分晶化;襯底溫度在350、370℃和420℃濺射的NiTi薄膜,對應的晶化粒子的半徑分別是2.40、2.59、2.81 nm;薄膜中的晶化粒子以形核長大的方式進行,結晶粒子與基底之間有清晰的界面.

作 者： 李永華 紀紅 孟繁玲 邱利霞 鄭偉濤 王煜明   作者單位： 李永華,孟繁玲,邱利霞,鄭偉濤,王煜明(吉林大學,麥克德爾米德實驗室材料系,吉林,長春,130023)

紀紅(吉林大學物理學院,吉林,長春,130023) 

刊 名： 材料科學與工藝  ISTIC EI PKU 英文刊名： MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 11(3)  分類號： O484.4  關鍵詞： NiTi薄膜   晶化粒子   小角X射線散射  

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