垂直磁記錄薄膜實(shí)施剩余磁化測量時(shí)退磁場的補(bǔ)償

對于垂直磁記錄薄膜,進(jìn)行剩余磁化強(qiáng)度的測量時(shí),必須補(bǔ)償退磁場.提出一種新方法,在直流退磁剩磁和等溫剩磁測量中采用有效反向磁場來直接補(bǔ)償退磁場.從而可以正確地得出垂直磁記錄薄膜的ΔM曲線并評價(jià)晶粒間的磁相互作用.還采用了三種方法來確定其中的關(guān)鍵參數(shù)--退磁因子.結(jié)果表明,c軸垂直取向的鋇鐵氧體薄膜中,晶粒間的磁相互作用是交換偶合型的;而Co-Cr-Ta薄膜中,晶粒間磁相互作用是靜磁相互作用.

作 者： 馮潔   作者單位： 上海交通大學(xué)微納米科學(xué)技術(shù)研究院,上海,200030  刊 名： 物理學(xué)報(bào)  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2003 52(2)  分類號： O4  關(guān)鍵詞： 退磁場補(bǔ)償   直流退磁剩磁(DCD)   等溫剩磁(IRM)   ΔM曲線  

【垂直磁記錄薄膜實(shí)施剩余磁化測量時(shí)退磁場的補(bǔ)償】相關(guān)文章：

超導(dǎo)薄膜臨界磁場的非線性非局域效應(yīng)研究04-28

高頻垂直磁偶極子電磁場勘探深度的研究04-29

干涉法測量鋁薄膜的軸向應(yīng)力04-29

TFA-MOD法YBa2Cu3O7-δ超導(dǎo)薄膜的交流磁化率研究04-26

內(nèi)部磁場梯度引起的擴(kuò)散對NMR巖石測量響應(yīng)的影響04-28

反射率的垂直入、反射測量法04-30

用表面磁光克爾原理測量薄膜材料的磁性參數(shù)04-28

磁場的作文10-06

磁性納米線反磁化機(jī)制隨磁化方向變化的微磁學(xué)研究04-29

耦合雙π環(huán)的自發(fā)磁化04-28